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國內(nèi)新興平板顯示產(chǎn)業(yè)將獲政策支持

2014-5-7 10:12:34來源:家電網(wǎng)作者:
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  • 據(jù)國家發(fā)改委網(wǎng)站5月6日公布,為推動我國新型平板顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,落實(shí)“寬帶中國”戰(zhàn)略,國家發(fā)展改革委、工業(yè)和信息化部擬組織實(shí)施新型平板顯示和寬帶網(wǎng)絡(luò)設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化專項(xiàng)。
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  • 國家發(fā)改委 寬帶中國

據(jù)國家發(fā)改委網(wǎng)站5月6日公布,為推動我國新型平板顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,落實(shí)“寬帶中國”戰(zhàn)略,國家發(fā)展改革委、工業(yè)和信息化部擬組織實(shí)施新型平板顯示和寬帶網(wǎng)絡(luò)設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化專項(xiàng)。

支持的重點(diǎn)包括:

(一)新型平板顯示領(lǐng)域

1、高世代(6代及以上)薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD)用高性能混合液晶材料研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

要求:驅(qū)動電壓≤7V,響應(yīng)時間≤15ms,電阻率≥1×1013Ω?cm,單體純度>99.90%,粘度<20mPa?s;申報(bào)單位已實(shí)現(xiàn)年銷售量大于1噸。

2、有源有機(jī)發(fā)光顯示(AMOLED)用高精度金屬因鋼蒸鍍掩膜板研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

要求:尺寸≥650mm×750mm,最小開口尺寸25μm,開口精度≤±3μm,開口間距≤50μm,定位精度≤±5μm;申報(bào)單位已實(shí)現(xiàn)年銷售量大于80套。

3、AMOLED用高性能、長壽命有機(jī)藍(lán)色電致發(fā)光、電子傳輸和空穴注入/傳輸材料研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

要求:達(dá)產(chǎn)后形成年產(chǎn)發(fā)光材料25公斤、其他材料500公斤的生產(chǎn)能力,其中:藍(lán)光材料色度坐標(biāo)達(dá)到CIE(0.14±0.01,0.07±0.01),1000 cd/m2亮度下,效率>6cd/A;空穴傳輸材料遷移率>8.0×10-4cm2/Vs;電子傳輸/空穴注入材料采用飛行時間法測試,遷移率>5.0×10-3cm2/Vs;玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg≥130℃;驅(qū)動電壓低于4V情況下,對應(yīng)器件特性指標(biāo)LT95壽命要求紅、綠(>5000cd/m2)≥3000小時,藍(lán)(>500cd/ m2)≥1000小時;實(shí)驗(yàn)片發(fā)光區(qū)面積3mm×3mm。

4、高分辨率面板驅(qū)動IC研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

要求:支持高分辨率(4K×2K)及以上電視面板、300PPI(每英寸像素?cái)?shù)目)及以上手機(jī)面板,并可根據(jù)面板廠商要求提供不同接口技術(shù)。

5、高世代TFT-LCD及AMOLED用PECVD設(shè)備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

要求:可制備非晶硅、氮化硅、氧化硅、三氧化二鋁等薄膜材料,成膜非均勻度≤±3%,基板處理能力≥20片/小時。

6、高世代TFT-LCD及AMOLED用濺射鍍膜設(shè)備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

要求:靶材利用率>75%,薄膜非均勻性<5%,可制備ITO(氧化銦錫)、IGZO(氧化銦鎵鋅)、鋁、鉬等薄膜材料。

7、AMOLED蒸鍍設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化

要求:最大

(關(guān)鍵字:國家發(fā)改委 寬帶中國)

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